Vhf-Hochrate-Plasma-CVD auf großen Flächen für Amorphe und Polykristalline Schichten
Zeitraum
1994-01-01 – 1997-03-31
Bewilligte Summe
372.090,62 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0329563A/0
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Silizium [EB1021]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
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