Hochrate-Plasma-CVD von A-Si:H und dessen elektrische Stabilität für photovoltaische Anwendungen
Zeitraum
1991-03-01 – 1993-06-30
Bewilligte Summe
294.146,22 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0329196A/9
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Silizium [EB1021]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Weitere Informationen