Statische und Dynamische A-Si-Hochratendeposition, Basierend auf der Ionenstrahltechnologie
Zeitraum
1988-08-01 – 1991-12-31
Bewilligte Summe
160.496,82 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0328874A/5
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Silizium [EB1021]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
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