NANOTEX - Texturierung multikristalliner Si-Solarzellen durch Nanoimprint-Lithographie
Zeitraum
2009-10-01 – 2012-12-31
Bewilligte Summe
706.928,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0325176
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Die Texturierung einer Siliciumsolarzelle bietet die Möglichkeit, den durch Sonnenlicht generierten Strom und somit ihren Wirkungsgrad erheblich zu steigern. Während für Hocheffizienzsolarzellen im Labormaßstab photolithographische Prozesse zur Herstellung definierter Texturen zum Einsatz kommen, werden im industriellen Produktionsmaßstab aus Kostengründen ausschließlich maskenlose Ätzprozesse genutzt. Im Rahmen des Projektes NANOTEX werden am Fraunhofer ISE Prozesse entwickelt, um definierte Texturen für Hocheffizienzsolarzellen in einem für eine industrielle Fertigung attraktiven Durchlaufprozess zu realisieren. Dabei soll die notwendige Ätzmaske in einem Rollen-Nanoimprint-Lithographie-Verfahren auf die zu texturierenden Siliciumwafer aufgebracht werden.
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