CISHiTec - CIGS-Dünnschichttechnologie: Neue hocheffiziente Prozesse für die Produktion
Zeitraum
2017-05-01 – 2020-10-31
Bewilligte Summe
3.260.823,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0324179
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Chalkopyrite [EB1022]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Übergreifendes Ziel des CISHiTec-Projekts ist die Identifikation und Umsetzung von Potenzialen zur Optimierung der CIGS-Technologie, Erhöhung von Zell- und Modulwirkungsgrad, Verbesserung von Langzeitstabilität und nicht zuletzt Reduktion von Herstellkosten. Die wissenschaftlichen und technischen Arbeitsziele umfassen die Weiterentwicklung des CIGS-Materialsystems durch gezielte und kombinierte Dotierung mit Alkalimetallen, Optimierung der Grenzflächen durch chemische und elektrische Passivierung nach dem Vorbild der Si-Technologie und durch die Anwendung neuer transparenterer und stabilerer Frontelektroden. Parallel dazu wird auf Substratgrößen von 30x30 cm2 mithilfe einer neu beschafften CIGS-Depositionsanlage in der ZSW-Modullinie an der Harmonisierung und Angleichung der Fertigungsprozesse gearbeitet, um den Transfer in die Produktion zu gewährleisten. Die den Modulertrag begrenzenden Einflussgrößen werden durch neue Untersuchungsmethoden identifiziert und ebenso der Einfluss von Prozess- und Materialvariationen auf das Langzeitverhalten der CIGS-Module sowohl im Labor als auch im Freifeld unter Realbedingungen bewertet. Bis Ende des Projekts soll ein neuer Zellwirkungsgrad von 24% und ein 30x30 cm2-Modulwirkungsgrad von 18% realisiert werden.
Weitere Informationen