2021-01-01  –  2023-06-30

1.600.792,00 EUR

NexWafe GmbH, Freiburg im Breisgau, Baden-Württemberg

03EE1082A

Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]

01221174/1  –  PEPSI - P-Typ Epitaktische Siliziumwafer

Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)

Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)

Energie

Im Pepsi Projekt sollen EpiWafer, statt wie bisher üblich als n-Typ Wafer, auch als p-Typ-Wafer bzw. direkt als Solarzellenvorstufen mit eingebautem p/n-Übergang hergestellt werden. Insbesondere der direkt aus der Gasphase, zusammen mit dem Wafer hegestellte p/n-Übergang ermöglicht es, das Potential der EpiWafer-Technologie vollständig auszuschöpfen. Neben dem hohen Kostensenkungspotential in der Waferherstellung können somit auch enorm Kosten in der Solarzellenfertigung eingespart werden. Darüber hinaus entfallen bei der Prozessierung von p/n-EpiWafern viele Kosten- und chemieintensive Prozessschritte was den Ressourcen- und Energiebedarf zur Solarzellenherstellung signifikant reduzieren kann. Im Projekt Pepsi sollen alle Einzelschritte der EpiWafer-Herstellkette auf dieses Ziel hin optimiert werden. Ein wesentlicher Beitrag zur Zielerreichung stellt die angepasste Ausführung der porösen Trennschicht dar, welche benötigt wird um den gewachsenen EpiWafer vom Substrat zu trennen. Diese Schicht soll an Einzelwaferanlagen dahingehenden optimiert werden auch Verunreinigungen aus dem Prozess oder zugrundeliegenden Material aufzunehmen und zu binden. Dieser sogenannte Getterschritt erweitert den Funktionsumfang der Trennschicht signifikant und kann auch zur Qualitätssteigerung in analogen Prozessen Anwendung finden. Auch die Epitaxieschritte sollen zunächst auf einer Referenzanlage eingefahren werden und dort hinsichtlich Qualität und Ablösbarkeit untersucht werden. Alle Prozesse werden im Anschluss auf industrietaugliche Inlineanlagen übertragen und im Hochdurchsatz validiert.